一、概述

      SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜橢偏儀，其采用自主研發(fā)的橢偏創(chuàng)新技術，具備 1 雙旋轉補償器同步控制技術，2 透明基底消背反技術 等技術。快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。

■  高精度橢偏測量解決方案；

■  超高精度、快速無損測量；

■  支持多角度、微光斑、可視化調平系統(tǒng)功能模塊靈活定制；

■  豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力。

二、產品特點

■ 采用高性能進口復合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm)，可支持擴展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

■  高精度雙旋轉補償器調制、PCrSCrA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；

■ 支持系列配置靈活，可根據不同應用場景支持多功能模塊化定制；

■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。

三、產品應用

SE-VM廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現光學薄膜、納米結構的光學常數和幾何特征尺寸快速的表征分析。

可選配件

技術參數